광원 파장도 다르고 노출 해상도도 다릅니다.

1. 심자외선 리소그래피 기계는 파장 범위가 200~300나노미터인 엑시머 레이저와 불화수소 레이저를 사용합니다. 극자외선 리소그래피 기계는 파장 범위가 10~121나노미터인 극자외선 광원을 사용합니다.

2. 원자외선 노광기와 극자외선 노광기의 노광 해상도도 다릅니다. EUV 빛은 파장이 짧기 때문에 노출 해상도가 높고 더 미세한 칩 구조를 생산할 수 있습니다.